一九八九年
  • 高溫氧化物超導體的研究繼續處于國際先進水平。磁光盤材料的研究采用擴散摻雜法制備的Mn-Bi-Al-Si磁光膜材料,其磁光克爾旋轉達2.04度,是目前國外試用的非晶態稀土和鐵族合金膜的五倍。此項成果為我所第一次向美日和西歐國家申請的專利。